光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學中的微機開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學/高速通信組件中。

二、技術(shù)參數(shù)：

1、目標分離：15?75毫米；

2、總放大倍率：100倍；

3、觀察照明器：紅色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平臺移動范圍：±5毫米；

5、θ調(diào)整：±5°

6、主體電源和水銀燈：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大氣壓為-80 Kpa）

8、鏡片：積分鏡

9、汞燈：250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積：大φ100毫米

11、強度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2  （405納米）

13、曝光時間控制：數(shù)字計時器和旋轉(zhuǎn)螺線管

14、汞燈照明裝置：交流110V

三、產(chǎn)品特點：

經(jīng)濟，緊湊和高級性能
在視場中查看兩個對準標記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器