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當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 光刻膠 > Futurrex光刻膠 > ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠
簡(jiǎn)要描述：德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。
產(chǎn)品型號(hào)：ma-N 2400、mr-EBL 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-07-01訪 問(wèn) 量：3939產(chǎn)品分類(lèi)
詳細(xì)介紹
德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。
ma-N 2400系列
電子束和深紫外曝光
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-50 nm以下；堿性水溶液下顯影；
mr-EBL 6000
電子束曝光
電子束和深紫外靈敏；非常適合作為刻蝕掩模，*的抗干刻、濕刻性能；光膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯；
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