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德國osiris顯影機(jī)：DEVELOPER，設(shè)計(jì)用于：顯影、清潔和干燥。晶圓顯影機(jī)在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域起著至關(guān)重要的作用，幫助實(shí)現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級(jí)結(jié)構(gòu)的加工。

UNIXX S 30 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備，適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設(shè)計(jì)的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝 均勻性和重復(fù)性，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計(jì)，方便操作和維修。它是一款手動(dòng)顯影機(jī)，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級(jí)成自動(dòng)化

UNIXX S 20 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備，適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設(shè)計(jì)的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝均勻 性和重復(fù)性，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計(jì)，方便操作和維修。它是一款手動(dòng)顯影機(jī)，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級(jí)成自動(dòng)化的系統(tǒng)

LCS專為晶圓和平面基片的半自動(dòng)旋涂和開發(fā)而設(shè)計(jì)，將是試點(diǎn)項(xiàng)目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。

SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對(duì)8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案，針對(duì)10英寸晶圓片。

UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。