光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。針對(duì)不同的晶圓尺寸，盒對(duì)盒系統(tǒng)可以很容易的自動(dòng)轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測(cè)量只需耗時(shí)約45秒。用激光粒度分布儀測(cè)試膠體的粒度分布時(shí)應(yīng)配合其它檢測(cè)手段驗(yàn)證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，同時(shí)應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團(tuán)聚影響測(cè)試結(jié)果。適用于已知折射率的單一物質(zhì)粒度分布測(cè)試，因此測(cè)試前要知道被測(cè)樣品的折射率，折射率選取的不同會(huì)對(duì)測(cè)試結(jié)果造成一定的影響。

　　光學(xué)膜厚儀的主要特點(diǎn)：

　　基片折射率和消光系數(shù)測(cè)量；

　　薄膜厚度測(cè)量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；

　　薄膜折射率和消光系數(shù)測(cè)量；

　　適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；

　　測(cè)試數(shù)據(jù)輸出和加載；

　　直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測(cè)試；

　　可用于實(shí)時(shí)在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測(cè)；

　　波長(zhǎng)范圍可選；

　　系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫，便于測(cè)試和數(shù)據(jù)分析。

　　光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜，并且還有半導(dǎo)體液晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測(cè)量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來進(jìn)行測(cè)量，對(duì)精度要求也不高。但是對(duì)薄膜等產(chǎn)品來說，精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的，所以一定要測(cè)量。測(cè)量?jī)x功能不能能夠準(zhǔn)確的進(jìn)行測(cè)量，還能及時(shí)的顯示出數(shù)據(jù)。

　　其次可以計(jì)算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。

　　再次，就是操作方便，效率較高。這種優(yōu)勢(shì)對(duì)于薄膜測(cè)試的時(shí)候是非常重要的，畢竟薄膜測(cè)試是一種比較枯燥的工作，如果測(cè)試又比較繁雜的話，會(huì)使人心情焦躁，難免會(huì)影響測(cè)試時(shí)間和測(cè)試結(jié)果。而操作方便，容易上手，幾秒鐘內(nèi)即可完成測(cè)量和數(shù)據(jù)分析，發(fā)展?jié)摿薮蟆?/div>